Nearfield Instruments ลงนามโครงการพัฒนาหลายปีเพื่อยกระดับการตรวจวัดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
November 19, 2025
รอตเทอร์ดัม เนเธอร์แลนด์, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Nearfield Instruments ผู้นำด้านโซลูชันการควบคุมกระบวนการแบบ 3 มิติ ไม่ทำลายชิ้นงาน และตรวจวัดได้แบบอินไลน์ โดยอาศัยเทคโนโลยีสแกนนิงโพรบ ประกาศเปิดตัวโครงการพัฒนากลยุทธ์ร่วมกันเพื่อเร่งสร้างนวัตกรรมในงานเมโทรโลยีสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ในฐานะส่วนหนึ่งของความร่วมมือหลายปีนี้ Nearfield Instruments จะนำระบบเรือธงของบริษัท QUADRA ไปติดตั้ง ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาขั้นสูงของ Imec ในเมืองลูเวน ทั้งสององค์กรจะร่วมกันพัฒนาโซลูชันเมโทรโลยีรุ่นใหม่เพื่อตอบโจทย์ความท้าทายสำคัญต่าง ๆ ในห่วงโซ่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ รวมถึง: เมโทรโลยีสำหรับ High-NA EUV Lithography การพัฒนาและการวิเคราะห์เมโทรโลยีแบบ 3 มิติของวัสดุเรซิสต์สำหรับ High-NA EUV